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第80章 数据风云（第3页）

不仅专家委员会成员全部到场，许多得到消息的资深工程师和研究员也挤满了后排。

所有人的目光都聚焦在主席台上那个即将揭晓谜底的年轻人身上。

钱正明坐在第一排，面色凝重。

刘铭则嘴角带着一丝不易察觉的冷笑，他已经做好了准备。

一旦周离拿不出东西或者拿出的是伪造数据，他就会立刻发难，彻底将这个空降的“骗子”

钉在耻辱柱上。

实验室的大门被推开。

周离走了出来，手里拿着一个银色的、带有特殊加密接口的固态硬盘。

他步伐稳健，眼神平静，仿佛只是要进行一次普通的技术汇报。

他无视了那些复杂的目光，径直走到会议室的主讲台，将固态硬盘接入了投影系统。

空气仿佛凝固了，所有人都屏住了呼吸。

周离的目光扫过全场，最终落在钱正明和刘铭身上，淡淡开口：

“时间到，各位，请看。”

随着周离的操作，巨大的投影屏幕瞬间亮起。

没有华丽的开场动画，没有冗余的客套话，映入眼帘的，是密密麻麻、却又条理清晰的工艺流程图、原子结构模型、关键参数列表以及复杂的物理化学公式。

屏幕的标题赫然写着——

“7nmFinFET工艺核心数据V1.0”

。

嗡！

会议室里响起一片倒吸凉气的声音。

仅仅是这个标题和初步展示的框架结构，就足以让在场的内行们心头巨震。

这绝非随意拼凑的臆想，其专业性和严谨性，远超他们之前的任何预研方案。

“这……这是鳍式场效应晶体管的全新结构？”

钱正明猛地站起身，快步走到屏幕前，几乎将脸贴了上去，浑浊的老眼中爆发出难以置信的光芒。

“这个栅极设计……太巧妙了！

它解决了漏电问题！”

“还有这个材料配比……是硅锗？

但比例和掺杂方式完全不同！

这能大幅提升载流子迁移率！”

“快看这个多重曝光方案！

竟然能绕开EUV光刻机的限制？

我的天……”

一位负责光刻工艺的专家语无伦次地惊呼起来，双手都在颤抖。

越来越多的专家围拢到屏幕前，他们忘记了之前的质疑和赌约，完全沉浸在了眼前这片崭新的技术天地之中。

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